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国产半导体沉积设备已覆盖成熟与先进制程,自给率已突破10%,正逐步攀升

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发表于 2021-9-15 10:10 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 fish1352 于 2021-9-15 10:24 编辑 9 d' Z( T2 D% Q
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9月14日消息,据拓墣产业研究院的最新研究数据显示,中国大陆建构半导体自主化产业链面临的最大挑战,主要是在半导体制造设备、材料等上游领域。而目前,在半导体制造设备方面,中国大陆的研磨、蚀刻、清洗设备的自给率已突破20%,部分本土设备商已可以提供支持14nm以下先进制程的设备,不过离子注入设备、曝光设备由于技术门槛极高,自给率仍在5% 以下。! Y  R+ ?- ~+ ]+ T+ j; n5 h
在沉积设备方面,中国本土供应商技术屡见突破,估计2020年中国本土半导体制造所需的沉积设备自给率达10%。由于中国本土沉积设备已有能力支持成熟与先进制程,随着半导体制造商积极扩产、官方大力支持半导体产业自主化,其出货量有机会逐步放大,成为继研磨、蚀刻、清洗设备后,第四个挑战20%自给率的设备项目。
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4 S7 I. v. ~/ ~2 t$ a( S4 p▲ 2020年中国半导体制造设备自给率推估。(Source:拓墣产业研究院,2021.9)% I& a, u) T2 @4 x! y' N
北方华创、拓荆科技、沈阳科仪与中微公司发展空间广阔
' v, c. u0 g4 g/ L7 P; s4 p根据拓墣产业研究院的预计,2020~2024年中国大陆沉积设备市场规模CAGR达9.4%,增速优于全球。随着中国沉积设备市场加速扩张,头部供应商如北方华创、拓荆科技、沈阳科仪,以及计划切入LPCVD、ALD设备的中微公司,亦有望获得更广阔的发展空间。/ w: J: c( H1 y$ u" `! |3 a
北方华创为中国本土第一大半导体沉积设备供应商,PVD设备为其强项,其金属硬遮罩PVD设备已能满足12吋晶圆、28~14nm制程需求;拓荆科技主要布局CVD、ALD、SACVD设备,出货量仅次于北方华创,其PECVD设备已导入40~28nm制程,而ALD设备最高可支援14nm制程;沈阳科仪长期布局PVD、CVD设备,惟其产能有限,目前主要面向科学研究与少量半导体制造需求;中微公司正计划启动半导体制造所需的LPCVD、ALD设备研发项目,估计其有机会在2023年进一步抢占中国沉积设备市场占比。
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